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UNICORN × KLA聯合特裝展臺|CIOE展臺7號館7B13,現場抽愛馬仕禮盒!

2025-09-02 [65]

第二十六屆中國國際光電博覽會(CIOE)將于2025年9月10-12日在深圳國際會展中心舉辦。聚焦信息通信、精密光學、攝像頭技術及應用、激光制造、紅外紫外、智能傳感、新型顯示及AR/VR等八大前沿領域。


優尼康展臺7B13邀您觀展,本次展會由優尼康與KLA INSTRUMENTS攜同參展,現場設備:KLA Filmetrics 光學膜厚儀、KLA 光學輪廓儀、探針式輪廓儀、 納米壓痕儀、橢偏儀等。如果您有以上設備的使用或者測樣需求,歡迎蒞臨優尼康展臺現場進行了解與測樣,更有豐富禮品等您領取。


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獲取CIOE觀眾門票

會議地址

深圳·國際會展中心

(寶安新館)


參會日期

2025年9月10日-12日

優尼康展位:7號館7B13

觀眾邀請函

現場活動

抽愛馬仕神秘禮盒!


歡迎您掃描上方二維碼關注優尼康公眾號,回復【7B13】預約登記,疊加多重好禮!我們準備豐富的獎品和活動等您現場參與!


參展設備

KLA全陣容亮相

Filmetrics F20 單點便攜式膜厚測量儀


您是想要知道薄膜厚度、光學常數,還是想要知道材料的反射率和透過率,F20都能滿足您的需要。僅需花費幾分鐘完成安裝,通過USB連接電腦,設備就可以在數秒內得到測量結果。基于某模塊化設計的特點,F20適用于各種應用。

相關應用:光刻膠、工藝薄膜、介電材料、硬涂層、Parylene、抗反射層、醫療設備、OLED、玻璃厚度、ITO與其他TCO。


Filmetrics F40 薄膜測量儀


結合顯微鏡的膜厚測量系統,Filmetrics的特殊膜厚測量系統讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數,通過分析待測膜層的上下界面間反射光譜,幾秒鐘內就可得到測量結果。

相關應用:光刻膠、半導體制造、聚合物/聚對二甲苯、生物醫學元件、MEMS微機電系統、盒厚、氧化物/氮化物、硅或其他半導體膜層、生物膜/氣泡墻厚度、植入藥物凃層、硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡、聚酰亞胺、ITO導電透明膜。

Filmetrics F50 自動Mapping膜厚測量儀


自動化薄膜厚度繪圖系統,依靠F50特殊的光譜測量系統,可以非常簡單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ 極坐標移動平臺,可以非常快速地定位所需測試的點并且實時獲得測試厚度,大約每秒能測試兩點。F50系統配置高精度長壽命的移動平臺,力求實現上百萬次的測量。

相關應用:半導體制造 LCD液晶顯示器、光刻膠、聚酰亞胺、氧化物/氮化物/SOI、ITO透明導電膜、晶圓背面研磨、光學鍍層 MEMS微機電系統、硬涂層、光刻膠、抗反射層、硅系膜層。


KLA Zeta-20 白光共聚焦輪廓儀


多功能光學測試模組,Zeta-20提供多種光學測試技術滿足用戶各種領域測試需求。基于ZDot技術,Zeta-20可以對近乎所有材料和結構進行成像分析,從超光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質。

相關應用:徽流體器件IC晶圓表面、MEMS器件、徽齒輪/微杺械、激光打孔、磁盤倒邊


KLA iMicro 納米力學測試儀


靈活易用的力學測試可廣泛用于各種材料和應用,iMicro 為壓痕、 硬度、 劃痕測試和多元化納米級測試等納米級力學測試設計。 iMicro 具有多量程加載驅動器, 實現在寬泛的荷載和位移的范圍內進行測量。

相關應用:硬涂層、陶瓷和玻璃、金屬和合金、復合材料、涂料和油漆、醫藥器械、半導體、電池與儲能材料、汽車和航空航天


Profilm3D 白光干涉輪廓儀


Profilm3D 使用垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術。以強大的性價比實現次納米級的表面形貌研究。

相關應用:粗糙度測量;三維形貌表征;臺階高度測量


FS-1 多波長橢偏儀


Film Sense FS-1多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動式部件橢偏探測器,可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現可靠地薄膜測量。

相關應用:二氧化硅和氮化物,高介電和低介電材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻膠。高和低指數薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有機薄 膜(OLED 技術)等